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- XTrace-基于SEM高性能微區熒光光譜儀
XTrace-基(ji)于SEM高性能(neng)微區熒光光譜儀采用了X射(she)(she)(she)線毛(mao)細(xi)導管技術(shu),利用該技術(shu),即使在非(fei)常小的(de)樣品區域也能(neng)產生很高的(de)熒光強度。X射(she)(she)(she)線毛(mao)細(xi)導管將X射(she)(she)(she)線源(yuan)的(de)大部分射(she)(she)(she)線收集(ji),并將其(qi)聚焦(jiao)成直徑(jing)35微米的(de)一個X射(she)(she)(she)線點。
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- 更新日期:2023-03-20 ¥面議
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- 精密刻蝕鍍膜系統PECS II 685
精密刻蝕鍍膜(mo)系統PECS II 685,一(yi)款(kuan)桌面型寬(kuan)束氬離子拋光(guang)及鍍膜(mo)設(she)備。對(dui)于同一(yi)個樣品(pin),可在同一(yi)真空環境下(xia)完成拋光(guang)及鍍膜(mo)。
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- 更新日期:2023-03-20 ¥面議
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- ChromaCL2第二代實時彩色陰極發光成像系統
ChromaCL2第二代實(shi)時(shi)彩色陰(yin)極(ji)發光(guang)成像(xiang)系統,是一款(kuan)*的(de)產品。它(ta)具有高效的(de)光(guang)學(xue)采(cai)集和色散能力,采(cai)用陣列光(guang)電(dian)倍增管得到高增益光(guang)探測能力。通過DigitalMicrograph軟件實(shi)時(shi)地將(jiang)光(guang)子(zi)脈沖信(xin)號混合成實(shi)時(shi)彩色陰(yin)極(ji)發光(guang)圖(tu)像(xiang)。
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- 更新日期:2023-03-20 ¥面議
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- Gatan原位加熱臺Murano 525
Gatan原位加熱臺Murano 525,精悍(han)緊湊,能方(fang)便地與(yu)(yu)大多數(shu)掃描電(dian)鏡的標準(zhun)樣品臺接口,它(ta)包含(han)一個絕熱接口,適用于二次電(dian)子像、電(dian)子背散射衍(yan)射(EBSD)與(yu)(yu)聚(ju)焦(jiao)離(li)子束(shu)(FIB)加工。能夠對大至9mm x 4.5mm x 1.5mm大小(xiao)的樣品進行(xing)快速加熱。
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- 更新日期:2023-03-20 ¥面議
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- MICROTEST 2000E系列原位動態拉伸試驗臺
MICROTEST 2000E系(xi)列原位(wei)動(dong)態拉伸試驗(yan)臺,可以對金屬(shu)樣品施(shi)加高達2000N的(de)拉力,用戶(hu)EBSD分(fen)析(xi)(xi),或者對一些其他材料進行常規的(de)應力-應變分(fen)析(xi)(xi)和SEM成像。試樣夾具70度角度傾(qing)斜,為EBSD分(fen)析(xi)(xi)提供(gong)了的(de)設置。
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- 更新日期:2023-03-20 ¥面議
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- MICROTEST系列原位動態拉伸試驗臺
MICROTEST系列原位動態(tai)拉伸(shen)試驗臺,金(jin)屬及(ji)鍍(du)層(ceng):用(yong)于(yu)研(yan)(yan)究(jiu)(jiu)晶粒變(bian)(bian)化(hua)、鍍(du)層(ceng)結合(he)情(qing)況、高溫(wen)形變(bian)(bian)及(ji)松(song)弛機理、晶粒旋轉及(ji)織構變(bian)(bian)化(hua)。復(fu)合(he)材(cai)料:用(yong)于(yu)研(yan)(yan)究(jiu)(jiu)材(cai)料韌性及(ji)強度;纖維(wei):研(yan)(yan)究(jiu)(jiu)材(cai)料強度
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