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- CleanMill氬離子研磨系統
CleanMill氬(ya)離子(zi)研磨系統(tong)為(wei)電池樣品(pin)SEM表征(zheng)提供高(gao)質量的(de)制樣方(fang)案，傳統(tong)的(de)機(ji)械研磨方(fang)式制備樣品(pin)斷(duan)(duan)面(mian)(mian)，斷(duan)(duan)面(mian)(mian)不(bu)可避免的(de)存在機(ji)械損(sun)(sun)傷(shang)和磨料(liao)嵌入(ru)樣品(pin)引起的(de)污染(ran)。使用氬(ya)離子(zi)束切割樣品(pin)制備，可以制備出(chu)沒有機(ji)械損(sun)(sun)傷(shang)和表面(mian)(mian)污染(ran)的(de)平(ping)整(zheng)斷(duan)(duan)面(mian)(mian)，非(fei)常適用于 制備電池材(cai)料(liao)和部件(jian)的(de)斷(duan)(duan)面(mian)(mian)樣品(pin)，從(cong)而進(jin)行掃 描電子(zi)顯微(wei)鏡結構表征(zheng)分析。
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- 更新日期：2023-03-20 ￥面議
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- XTrace-基于SEM高性能微區熒光光譜儀
XTrace-基于SEM高(gao)(gao)性(xing)能微區熒光光譜儀(yi)采用了Ｘ射(she)(she)線(xian)(xian)毛細(xi)導(dao)管(guan)技術(shu)，利用該技術(shu)，即(ji)使在非常小的樣品(pin)區域也(ye)能產生很高(gao)(gao)的熒光強度。Ｘ射(she)(she)線(xian)(xian)毛細(xi)導(dao)管(guan)將(jiang)Ｘ射(she)(she)線(xian)(xian)源(yuan)的大部分射(she)(she)線(xian)(xian)收(shou)集(ji)，并(bing)將(jiang)其聚焦成(cheng)直徑35微米的一個Ｘ射(she)(she)線(xian)(xian)點。
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- 精密刻蝕鍍膜系統PECS II 685
精密(mi)刻蝕鍍(du)膜系統(tong)PECS II 685，一(yi)款桌(zhuo)面型(xing)寬束氬離(li)子(zi)拋光及(ji)鍍(du)膜設備。對(dui)于(yu)同一(yi)個樣品，可在同一(yi)真空環境(jing)下完(wan)成拋光及(ji)鍍(du)膜。
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- ChromaCL2第二代實時彩色陰極發光成像系統
ChromaCL2第二代(dai)實(shi)時彩色(se)(se)陰極(ji)發光成(cheng)像系統，是一(yi)款(kuan)*的產品(pin)。它具有高效的光學采集和色(se)(se)散(san)能力，采用陣列光電倍增管得到高增益光探測(ce)能力。通過DigitalMicrograph軟件實(shi)時地將光子脈沖信號混合成(cheng)實(shi)時彩色(se)(se)陰極(ji)發光圖像。
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- Gatan原位加熱臺Murano 525
Gatan原位加(jia)熱臺Murano 525,精悍緊湊，能方(fang)便地與大(da)多數(shu)掃描電(dian)鏡(jing)的標(biao)準樣(yang)品臺接口，它包含(han)一個絕熱接口，適用于二次電(dian)子像、電(dian)子背散射衍射（EBSD）與聚焦離(li)子束（FIB）加(jia)工。能夠對(dui)大(da)至9mm x 4.5mm x 1.5mm大(da)小的樣(yang)品進行快速加(jia)熱。
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- MICROTEST 2000E系列原位動態拉伸試驗臺
MICROTEST 2000E系列原位動態拉(la)伸試驗臺(tai)，可以(yi)對金屬(shu)樣品施加高達2000N的拉(la)力(li)，用戶EBSD分析，或者(zhe)對一些(xie)其他材料進(jin)行常規的應力(li)-應變分析和SEM成像。試樣夾具70度(du)角度(du)傾(qing)斜，為(wei)EBSD分析提(ti)供了的設置。
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